Dettagli del prodotto
Place of Origin: Made In China
Marca: Dayoo
Termini di pagamento e di spedizione
Functionality: |
Multi-purpose |
Operating System: |
Compatible with various systems |
Flexibility: |
High |
Printing Technology: |
3D Printing |
Durability: |
High |
Power Source: |
Electricity |
Precision: |
High |
Arm Length: |
Adjustable |
Speed: |
Fast |
Weight: |
Lightweight |
Control Method: |
Robotic |
Material: |
Ceramic |
Color: |
White |
Design: |
Sleek and modern |
Functionality: |
Multi-purpose |
Operating System: |
Compatible with various systems |
Flexibility: |
High |
Printing Technology: |
3D Printing |
Durability: |
High |
Power Source: |
Electricity |
Precision: |
High |
Arm Length: |
Adjustable |
Speed: |
Fast |
Weight: |
Lightweight |
Control Method: |
Robotic |
Material: |
Ceramic |
Color: |
White |
Design: |
Sleek and modern |
Il braccio robotico in ceramica di allumina stampato in 3D è una soluzione di automazione ad alte prestazioni specificamente progettata perproduzione di semiconduttori, manipolazione di wafer e produzione automatizzata. UtilizzandoTecnologia di stampa 3D DLP/SLA, è fabbricato come un singolo componente integrato990,9% di ceramica di allumina di alta purezza (Al2O3). Con proprietà eccezionali tra cuidurezza ultra elevata, resistenza termica, resistenza alla corrosione e basso coefficiente di espansione termica, è ideale perambienti a vuoto, condizioni chimiche difficili e processi ad alta temperatura, assicurandoelevata pulizia e stabilitàin applicazioni di movimentazione di wafer.
Principali applicazioni
✅Manipolazione di wafer a semiconduttore: afferrazione, posizionamento e trasferimento del vuotoWafer da 12 pollici
✅Apparecchi di incisione e deposizione: resistente al plasma per processi PVD/CVD
✅Operazioni ad alta temperatura: funzionamento continuo a300°C+
✅Linee di produzione automatizzate: Compatibile con gli utensili a punta di braccio (EOAT) per una maggiore produttività
Caratteristica | Armi metalliche tradizionali | Braccio in ceramica stampato in 3D |
---|---|---|
Resistenza alla corrosione | Vulnerabile agli acidi/alcali | Resiste a ambienti con pH da 1 a 14 |
Stabilità termica | Deformazioni superiori a 200°C | Stabile a 300°C+ |
Peso | Pesanti (costruzione in acciaio) | Peso leggero (densità 3,9 g/cm3) |
Pulizia | Contaminazione da particelle metalliche | Emissioni di particelle zero, conforme al SEMI |
Purezza materiale: ≥ 99,9% Al2O3
Tecnologia di stampa: fotopolimerizzazione DLP (precisione ± 20 μm)
Capacità di carico utile: 5 kg (normale)/10 kg (pesante)
Ripetibilità:Accuratezza di posizionamento ± 0,01 mm
Intervallo di temperatura: -50°C a 300°C
Roughness superficiale: Ra≤0,1μm (polirebile fino a 0,05μm)
Compatibilità con il vuoto: canali d'aria integrati (filtrazione di 0,5 μm)
Modellazione 3D: Progettazione CAD + simulazione del percorso di movimentazione dei wafer
Preparazione dello slurry: miscela di resine nano-alumina + fotopolimero (55-58% di solido)
Stampa DLP: Curatura strato per strato (20 μm di spessore)
Sinterizzazione ad alta tempistica: densificazione a 1650°C (117-122% di compensazione della contrazione)
Macchinari di precisione: taglio laser + macinazione CNC (± 0,02 mm di piattezza)
Controllo della qualità: ispezione a raggi X + prova di perdite
️Note importanti:
Sterilizzare in autoclave (121°C) prima del primo utilizzo
Evitare l'esposizione all'acido fluoridrico (HF)
Ispezione congiunta mensileper l'integrità dell'usura e del vuoto
Utilizzare effettivi finali in ceramicaper prevenire danni ai wafer